发射器
先在 Entropy 中找到对应的分区名称，然后在下方选择该分区。控件说明与产品内的工具提示保持一致。部分分区仅在选择特定模式时才会出现。
分区
发射器
控制该系统在何处、何时以及朝什么方向创建粒子。
发射器形状
选择用于提供粒子出生位置的形态。部分选项会显示对应来源的专属控件。
选项：点 · 线 · 圆柱体 · 球体 · 方框 · 网格 · 灯光 · 文本 · 公式 · 蒙版 · 图层。
发射器行为
选择该系统何时、在何处创建粒子。基于父级的模式仅影响子发射器。
选项：连续 · 静态 · 来自父级的粒子 · 父级消亡时 · 来自父级位置 · 爆发。
粒子数/秒
设置每秒创建的粒子数量。从父级粒子发射时，该速率会应用于每个存活的父级粒子。
粒子数量
设置静态场或一次性爆发所创建的粒子总数。网格布局可改用其轴向数量代替。
位置
在三维合成空间中移动该源。X 向右移动，Y 向下移动，Z 向场景深处移动。
发射器大小
选择使用单一数值缩放全部源维度，还是分别调整各轴。
选项：XYZ 联动 · 独立。
发射器大小（统一）
在三个轴上等比例缩放该源。
发射器大小 X
设置源沿 X 轴的大小。方框和线会将其视为完整宽度；圆柱体会将其视为底面的完整宽度；球体将其用作三个轴共同的直径，并忽略 Y 和 Z，因此球体正好适配相同大小的方框。
发射器大小 Y
设置源沿 Y 轴的大小。方框和线会将其视为完整高度；圆柱体会将其视为完整高度。球体忽略此项，其直径取自 Emitter Size X。
发射器大小 Z
设置源沿 Z 轴的大小。方框和线会将其视为完整深度；圆柱体会将其视为底面的完整深度。球体忽略此项，其直径取自 Emitter Size X。
方向扩散
加宽或收窄粒子初始方向的锥形范围。0 表示粒子朝一个方向发射；360 度表示朝所有方向发射。
方向随机
在区域源的两种发射方式之间混合：从形状向外发射，或沿瞄准的 Direction Spread 锥形发射。此项不影响点、灯光或静态发射。
X 轴旋转
使源围绕 X 轴旋转。数值可超过 360 度以实现连续旋转。
Y 轴旋转
使源围绕 Y 轴旋转。数值可超过 360 度以实现连续旋转。
Z 轴旋转
使源围绕 Z 轴旋转。数值可超过 360 度以实现连续旋转。
速度
设置粒子诞生时的移动速度。
速度随机
以基础速度为中心，随机化每个粒子的初始速度。数值越高，速度范围越大。
继承速度
将源的运动叠加到新诞生的粒子上。数值越高，运动或动画中的源对粒子的抛甩效果越强。
间距
在所选分布内选择随机放置或规则网格排列。网格体表面始终保持随机——该处尚不支持网格排列。
选项：随机 · 网格。
分布
选择粒子是在整个形状内部、沿其边界，还是在其表面产生。对于三维形状，边缘和表面是相同的。点和线会忽略此设置，而蒙版源改用 Emit From。
选项：填充 · 边缘 · 表面。
向上轴
选择在应用旋转之前，用作源参考方向的世界轴。
选项：X · Y · Z。
随机种子
在不改变其他设置的情况下，更改可重复的随机排列。相同的数值会重现相同的变化效果。
网格体
控制用作粒子源的 OBJ 表面。
适用于：Emitter Shape = Mesh。
显示源主体
在渲染场景中与粒子一起显示网格源主体。关闭此项以仅显示发射出的粒子。
栅格
控制粒子如何在受支持的发射器形状上按均匀网格排布。
用于：间距 = 网格。
网格计数 X
设置沿 X 轴的网格点数量。
网格计数 Y
设置沿 Y 轴的网格点数量。
网格计数 Z
设置沿 Z 轴的网格点数量。
网格采样
选择弯曲网格是保留每个分段，还是在物理宽度变小的地方使用更少的点。网格计数 X 始终是最宽环上的最大值。
选项：固定分段数 · 均匀间距。
网格错开
使相邻的网格行或环按单元格的一部分错开偏移。设为半个单元格的值会形成砖砌或蜂窝排列。
父级粒子模式
控制子级系统从父级系统的存活粒子上何时、何处发射。
用于：发射器行为 = 来自父级的粒子。
发射模式
选择新生粒子如何在父发射器的存活粒子上移动。使用随机可获得均匀采样，使用循环可实现扫描效果，使用脉冲可实现定时爆发。
选项：随机 · 循环 · 脉冲。
模式速率（Hz）
设置模式每秒扫描或脉冲的频率。
模式宽度
设置扫描窗口的大小或每次脉冲的活跃部分。较小的值会产生更紧凑的扫描或更短的爆发。
爆发
设定一次性爆发的形态：持续多少帧，以及消退的速度。
用于：发射器行为 = 爆发。
爆发帧数
将一次性爆发分散到这么多帧中。帧数越多，释放越缓慢、越厚重。
爆发衰减
设定粒子在多帧爆发中的分布方式。数值越高，越多粒子聚集在起始处，而总量不变。
发射器材质
控制网格或文本发射器主体的可见颜色、发光和表面反应。
用于：发射器形状 = 网格 或 发射器形状 = 文本。
颜色
更改可见源主体表面的色调。
After Effects 标签：发射器颜色。
金属度
控制可见源主体反射光线的强弱，如同金属一般。
After Effects 标签：发射器金属度。
粗糙度
更改可见源主体上高光的锐利或宽广程度。高光则控制该高光的亮度。
After Effects 中的标签：Emitter Roughness。
高光
设置可见源体上高光的亮度。粗糙度仍决定高光是尖锐还是宽广。为 0 时高光消失；为 1 时高光达到最大强度。
After Effects 中的标签：Emitter Specular。
环境
用周围环境为可见源体打光。由于它无需追踪粒子即可增加光照，因此成本远低于反射。此环境类型与粒子的环境设置共用。
After Effects 中的标签：Emitter Environment。
反射
在可见源体上反射场景中的粒子及主体自身的表面。将其设为 0 可使主体保持平面效果，即该控制项出现之前的表现。
After Effects 中的标签：Emitter Reflections。
反射模糊
在源体自身粗糙度的基础上进一步柔化其反射。为 0 时反射与主体的粗糙度一致；为 100 时反射完全模糊。主体拥有独立的控制项，因此模糊粒子的反射不会再同时模糊主体本身。
After Effects 中的标签：Emitter Reflection Blur。
发光
使可见源体呈现自发光效果。数值越高，核心越明亮。
After Effects 中的标签：Emitter Glow。
菲涅尔
在可见源体的轮廓周围添加彩色光晕。数值越高，边缘光效越强。
After Effects 中的标签：Emitter Fresnel。
灯光选项
控制哪些 After Effects 灯光可以发射粒子，以及其强度如何影响发射。
适用于：Emitter Shape = Light。
灯光名称
设置用于标记合成中哪些灯光图层发射粒子的名称前缀。凡是名称以该前缀开头的灯光都会成为粒子来源。
根据强度计算每秒粒子数
使较亮的选定灯光比较暗的灯光发射更多粒子。关闭时，所有选定灯光使用相同的基础速率。
文本选项
控制文本图层的字形如何成为粒子来源。
适用于：Emitter Shape = Text。
挤出
将文本主体挤出为三维实体。数值为零时保持平面。
深度
对挤出文本的前后边缘进行圆化或倒角处理。数值越高，边缘处理效果越深。
After Effects 中的标签：Bevel Depth。
步数
控制构成文本倒角的段数。步数越多，边缘越圆滑。
After Effects 中的标签：Bevel Steps。
显示文本
在渲染场景中与粒子一起显示填充的文本主体。关闭后仅显示发射出的粒子。
图层选项
控制图层的图像和 Alpha 通道如何转变为粒子源。
适用于：发射器形状 = 图层。
冻结源
在起始帧对图层源进行采样，并将该发射图案固定不变。关闭此选项则跟随源的逐帧变化。
路径
将路径源从粒子散布其上的形状，转变为粒子沿其运动的路径。适用于线、公式和蒙版源。
适用于：发射器形状 = 线 或 发射器形状 = 公式 或 发射器形状 = 蒙版。
发射起点
以曲线长度的百分比设置粒子开始出生的位置。将其与发射终点设为相同值，可让所有粒子在单一点上出生，从而沿路径运动，而不是一开始就铺满路径。
发射终点
设置曲线上粒子停止出生的位置。若终点小于起点，发射范围会像色相范围那样跨越曲线接缝进行环绕，这正是闭合图形所需要的。
跟随路径
引导粒子沿发射器的曲线运动。曲线以力的形式牵引粒子，而不是锁定其位置，因此在任何设置下，重力、湍流及其他所有力仍会起作用。为 0 时，曲线仅用于放置粒子，不会使其移动。
路径速度
设置粒子沿曲线运动的速度，单位为像素/秒。负值会使其反向运动。仅当跟随路径大于 0 时才会生效。
路径半径
赋予曲线厚度，使其呈现为一股流体，而非一根线。分布方式决定实心或空心：填充生成实心管状体，表面和边缘仅生成其外皮。
半径纵横比
将管状体压扁成丝带状。为 0 时保持圆形；正值使其在曲线自身平面内压扁，负值使其沿深度方向立起。保留完整路径半径的是未被压扁的那根轴。
起始扭转
在路径起点处使丝带绕曲线滚转。只有当半径纵横比不为 0 时才会显现效果——圆形管状体在任何滚转角度下看起来都相同。
结束扭转
在路径终点处使丝带滚转，并沿路径从起始扭转过渡而来。两值相等时，丝带保持恒定角度；相差 180 时，丝带沿路径转半圈。
到达末端时
选择粒子到达曲线末端时的行为：保持原有速度继续运动、循环回到起点、停留在原地，或消亡。闭合曲线无论选择哪种方式都会继续绕行。
选项：释放 · 循环 · 停止 · 消亡。
公式
基于参数曲线构建粒子源。曲线类型可选择波形、螺旋线或利萨茹图形，每种类型下方都有各自的控制项。
适用于：发射器形状 = 公式。
曲线类型
选择公式发射器排列粒子所依据的曲线：由波形置换的直线、螺旋线，或三条独立的正弦轴。每种类型下方都有各自的控制项，未激活的选项会显示为灰色。
选项：波形 · 螺旋线 · 利萨茹。
波形
将公式曲线塑造为由一个或两个波形置换的直线。
适用于：曲线类型 = 波形。
波形 1 类型
选择用于塑造第一条曲线的波形。
选项：正弦 · 三角波 · 方波 · 锯齿波 · 噪声。
波形 1 频率
设置源线段上容纳的第一波形周期数。
波形 1 振幅
设置第一个波形使源线偏移的幅度。负值会翻转波形。
波形 1 相位
在不改变形状的情况下，沿源线移动第一个波形。为其设置动画可使波形移动。
波形 1 轴
选择第一个波形是垂直方向弯曲还是沿深度方向弯曲。
选项：垂直 · 深度。
波形 2 类型
选择用于塑造第二条曲线的波形。
选项：正弦 · 三角波 · 方波 · 锯齿波 · 噪声。
波形 2 频率
设置在源线上容纳的第二个波形的周期数。
波形 2 振幅
设置第二个波形使源线偏移的幅度。负值会翻转波形。
波形 2 相位
在不改变形状的情况下，沿源线移动第二个波形。为其设置动画可使波形移动。
波形 2 轴
选择第二个波形是垂直方向弯曲还是沿深度方向弯曲。
选项：垂直 · 深度。
混合模式
选择两个波形是交叉淡化还是相加。混合数量仅影响淡化模式。
选项：淡化 · 求和。
相位偏移
将两个波形一起沿源线移动。为其设置动画可使整条曲线移动。
混合
在淡化模式下平衡第一个和第二个波形。端点仅使用其中一个波形。
螺旋线
将公式曲线塑造为沿其长度前进的螺旋线。
搭配使用：曲线类型 = 螺旋线。
圈数
设置螺旋线在其长度上完成的完整旋转圈数。负值会使其朝相反方向缠绕。
起始角度
使整条螺旋线绕其长轴旋转。为其设置动画可使螺旋线旋转。
起始半径
设置曲线起点处螺旋线的半径。使其与结束半径匹配可获得均匀的螺旋线，或将其设为 0 可形成向外展开的圆锥体。
结束半径
设置曲线终点处螺旋线的半径。
半径偏移
使半径从起点到终点的变化产生偏斜。50 表示均匀分布。较低的值会保持紧密的核心并带有松散的外层螺旋；较高的值则会早早展开然后逐渐收拢。
长度偏移
使螺旋圈沿曲线的间距分布产生偏斜。50 表示均匀分布；较低的值会使其聚集在起点，较高的值则聚集在终点。
李萨如
由三个独立的正弦轴共同构成公式曲线，因此图形天生就是三维的。发射器大小决定每个轴的作用范围。
适用于：曲线类型 = 利萨茹。
X 轴频率
设置曲线沿 X 轴的循环次数。三个频率之间的比例决定了图形的形状。整数比会使图形闭合，分数比则会使其保持开放。
Y 轴频率
设置曲线沿 Y 轴的循环次数。
Z 轴频率
设置曲线沿 Z 轴的循环次数。为 0 时图形保持平面并朝向摄像机；提高数值可将曲线抬升至纵深方向。
Y 相位
使 Y 轴相对 X 轴产生相位偏移。正是这个参数将一条扁平的对角线展开成图形——当相位为 90 度且两个频率相同时，会形成一个圆形。
Z 相位
使 Z 轴相对 X 轴产生相位偏移。X 轴本身不带相位——它是另外两个轴的参照基准。
相位偏移
使所有轴沿曲线一同推进。在连续发射的发射器上为其设置动画，可让粒子沿图形流动。
After Effects 中的标签：Lissajous Phase Offset。
蒙版选项
控制哪一条 After Effects 蒙版路径作为粒子来源。
适用于：发射器形状 = 蒙版。
路径
选择用于提供粒子出生位置的蒙版轮廓。
全部蒙版
使用源上的所有蒙版，而不仅是所选路径。
发射来源
选择粒子是沿蒙版轮廓出生，还是填充闭合蒙版的内部。开放式蒙版无法填充，因此会回退为沿轮廓出生。蒙版使用此选项来代替分布方式。
选项：路径 · 表面（闭合路径）。
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