エミッターガイド

エミッターのコントロールをUIセクション別に見る

エミッターはパーティクルの発生位置を決めます。コントロールは、選択中のシステムのエミッターに表示されます。ストリーム、固定配置、バーストのいずれも作成できます。Entropyは時間の経過に応じてエミッターの動作に従いパーティクルを生成します。

パーティクルが発生するタイミングを選ぶ

エミッターの動作	用途
Continuous	継続的なストリーム。パーティクル/秒で生成レートを設定します。
Static	固定されたパーティクルフィールド。Staticのパーティクルは時間経過しません。
Burst	一度きりの放出。パーティクル数で総数を設定します。バーストフレーム数で放出を時間方向に分散します。
From Parent's Particles	生存中の親パーティクルから放出する子。レートは生存中の親パーティクルごとに適用されます。
On Parent Death	親パーティクルが消滅したときに放出する子。
From Parent Position	親の発生位置から放出する子。

親を基準とする動作には子システムが必要です。複数システムを参照してください。

Burstでは、バーストの減衰を上げると放出の多くが開始寄りに集まります。変化するのはタイミングであり、総数は変わりません。バーストをもう一度見たいときはプレビューを再開してください。

ソースを選ぶ

エミッター形状	ソース
Point	1つの発生位置。
Line	ライン。パーティクルの進行を導くこともできます。
Cylinder	円柱状の領域。
Sphere	球状の領域。
Box	幅・高さ・奥行きを持つ領域。
Mesh	OBJファイルから読み込む3次元のサーフェス。OBJは3Dモデル用のファイル形式です。
Light	名前の接頭辞で選択したAfter Effectsのライトレイヤー。
Text	文字の形状。Composerはテキストとフォントのコントロールを提供し、After Effectsはソーステキストレイヤーを提供します。
フォーミュラ	ウェーブ、スパイラル、リサージュのいずれかのカーブです。リサージュカーブは、各軸ごとの繰り返し運動を組み合わせたものです。
マスク	After Effectsのマスクパスです。マスクはレイヤーに付随するアウトラインです。
レイヤー	After Effectsレイヤーの画像と透明度です。

パーティクルの配置と分布

位置はコンポジション座標を使用します。Xは右方向、Yは下方向、Zはシーンの奥方向へ移動します。回転はこれらの軸を中心にソースを回転させます。

ソースの各次元をリンクすれば均一にスケールでき、軸ごとに個別に調整することもできます。スフィアはエミッターサイズXを直径として使用し、YとZは無視されます。

分布では、対応している場合にFill、Edge、Surfaceを選択できます。3Dシェイプでは、EdgeとSurfaceの結果は同じです。PointとLineではこの設定は無視されます。マスクでは代わりに放出元を使用します。

間隔では、ランダム配置と規則的なグリッドのどちらかを選択します。メッシュのサーフェスではランダム配置が使用されます。グリッドの場合は、各軸方向の数を設定します。ずらしは、行やリングを1つおきにオフセットします。半セル分のオフセットにすると、レンガ状の配置になります。グリッドのサンプリングでは、曲面形状の細い部分の周辺で配置数が少なくなることがあります。

シードを変更すると、再現可能なランダム配置が切り替わります。ランダムパターンを変えずに別の設定を比較したいときは、シードを固定したままにします。

初期モーションの設定

速度は発生時のスピードを制御します。スピードのばらつきにより、パーティクルごとに異なる初速が与えられます。広がりは初期方向のコーンを制御します。0ではパーティクルが一方向に放出され、360度では全方向に放出されます。

ソースモーションの継承は、エミッターの動きを発生直後のパーティクルに加算します。アニメーションさせたエミッターの動きに沿ってパーティクルを飛ばしたいときに使用します。

テキストやメッシュから放出する

文字の形状を使用するにはテキストを選択します。Composerでテキストを入力し、フォントを選択します。押し出しで奥行きが加わります。ベベルのコントロールは、文字の前面と側面のつながり方を調整します。ベベルの品質は、テキストの形状が決まってから上げてください。

モデルから放出するには、メッシュを選択してOBJを参照します。モデルの作成時の原点がエミッター位置から離れている場合は、モデルをセンタリングしてください。スケールは引き続きエミッターサイズで制御します。

テキストを表示またはソースを表示を有効にすると、ソリッドのソース本体がレンダリング結果に含まれます。パーティクルだけを表示するにはオフにします。エミッターマテリアルはソース本体を変更します。パーティクルマテリアルは放出されたパーティクルを変更します。

After Effectsのレイヤーから放出する

レイヤーエミッターでは、ソースレイヤーを選択します。そのアルファチャンネル(画像の透明度)によって、パーティクルの発生位置が決まります。レイヤーの画像の色を使用するには、カラーモード > From Layerを選択します。

マスクエミッターでは、パスを選択するかすべてのマスクを有効にします。パスはアウトラインに沿って放出します。Face (Closed Path)は内部を塗りつぶすように放出します。オープンパスの場合はアウトラインからの放出に切り替わります。

ライトエミッターでは、ソースとなるライトを識別する名前のプレフィックスを設定します。一致するライトはすべてソースになります。明るいライトほど多くのパーティクルを放出させたい場合は、ライトの強度に応じたパーティクル数のオプションを有効にします。

これらのソースはAfter Effectsで確認してください。Composerには、コンポジション上のレイヤーやライトの実際の状況は含まれません。

パーティクルをパスに沿わせる

ライン、フォーミュラ、マスクのソースにはパスのコントロールがあります。パスは、発生時のパーティクルの配置にも、発生後の進行方向の誘導にも使用できます。

フォーミュラを選択し、次にスパイラルを選択します。
カーブが見えるように、ソースの長さとスパイラルの半径を設定します。
放出の開始と放出の終了を同じ値にして、パス上の1点からパーティクルを発生させます。
パスに沿わせるを0より大きくします。
パスの速度を0より大きくすると前方へ、0より小さくすると後方へ移動します。
モーションをプレビューします。パーティクルがカーブに沿って進むはずです。

パスに沿わせるはフォースとして働きます。そのため、他のフォースによってパーティクルがカーブから離れることもあります。パスに沿わせるが0の間は、パスの速度は効果がありません。

パスの半径はストリームの太さを決めます。半径の縦横比を使うと、リボン状に平たくできます。ねじれはパスに沿ったリボンの回転を変化させます。終端の動作を使って、パーティクルを終点でそのまま進ませる、ループさせる、停止させる、消滅させるのいずれかを選べます。

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