エミッター
エミッター · パーティクル · フォース · レンダリング
Entropyに表示されているセクション名を確認し、以下から選択してください。コントロールの説明は製品のツールチップに準拠しています。一部のセクションは、選択したモードでのみ表示されます。
セクション
エミッター
このシステムがパーティクルを生成する位置、タイミング、方向を制御します。
エミッター形状
パーティクルの発生位置を供給する形状を選択します。選択によっては、そのソース専用のコントロールが表示されます。
オプション:ポイント · ライン · シリンダー · 球 · ボックス · メッシュ · ライト · テキスト · フォーミュラ · マスク · レイヤー。
エミッターの動作
このシステムがパーティクルを生成するタイミングと位置を選択します。親に基づくモードは、子エミッターにのみ影響します。
オプション:連続 · 静止 · 親のパーティクルから · 親の消滅時 · 親の位置から · バースト。
パーティクル/秒
1秒あたりに生成されるパーティクル数を設定します。親パーティクルからの放出では、このレートが生存中の各親パーティクルに適用されます。
パーティクル数
静止フィールドまたは1回限りのバーストで生成されるパーティクルの総数を設定します。グリッドレイアウトでは、代わりに各軸の数を使用できます。
位置
3次元のコンポジション空間内でソースを移動します。Xは右方向、Yは下方向、Zはシーンの奥方向に移動します。
エミッターサイズ
1つの値でソースの全方向を拡大縮小するか、各軸を個別に調整できるようにするかを選択します。
オプション:XYZ連動 · 独立。
エミッターサイズ(均一)
3軸すべてを均等にスケールしてソースの大きさを変更します。
エミッターサイズX
ソースのX方向のサイズを設定します。ボックスとラインでは全体の幅、シリンダーでは底面の全体の幅として扱われます。スフィアは3軸すべての直径として使用し、YとZは無視されるため、同じサイズのボックスにちょうど収まるスフィアになります。
エミッターサイズY
ソースのY方向のサイズを設定します。ボックスとラインでは全体の高さ、シリンダーでも全体の高さとして扱われます。スフィアはこれを無視し、直径はエミッターサイズXから取得します。
エミッターサイズZ
ソースのZ方向のサイズを設定します。ボックスとラインでは全体の奥行き、シリンダーでは底面の全体の奥行きとして扱われます。スフィアはこれを無視し、直径はエミッターサイズXから取得します。
方向の広がり
パーティクルの初期方向のコーンを広げたり狭めたりします。0では一方向に放出され、360度ではあらゆる方向に放出されます。
方向ランダム
領域ソースからの放出を、形状から外向きに放出する状態と、狙った方向の広がりのコーンに沿って放出する状態との間でブレンドします。ポイント、ライト、静的な放出には影響しません。
X回転
ソースをX軸まわりに回転します。値は360度を超えて指定でき、連続回転になります。
Y回転
ソースをY軸まわりに回転します。値は360度を超えて指定でき、連続回転になります。
Z回転
ソースをZ軸まわりに回転します。値は360度を超えて指定でき、連続回転になります。
速度
パーティクルが発生した時点の移動の速さを設定します。
速度ランダム
各パーティクルの初速を基準速度のまわりでランダムにばらつかせます。値を大きくすると速度の幅が広がります。
速度を継承
ソースの動きを新しく発生したパーティクルに加えます。値を大きくすると、移動中またはアニメーションしているソースがパーティクルをより強く弾き飛ばします。
間隔
選択した分布の内側で、ランダム配置にするか規則的な格子状にするかを選びます。メッシュ表面は常にランダムで、格子状はまだ利用できません。
オプション: Random · Grid。
分布
パーティクルを形状の内部全体、境界に沿って、または表面上のどこから発生させるかを選びます。3D形状ではEdgeとSurfaceは同じ結果になります。PointとLineはこれを無視し、マスクソースは代わりに放出元を使用します。
オプション: Fill · Edge · Surface。
上方向の軸
回転を適用する前に、ソースの基準方向として使用するワールド軸を選びます。
オプション: X · Y · Z。
ランダムシード
他の設定を変えずに、再現可能なランダム配置を切り替えます。同じ値を指定すれば同じばらつきが再現されます。
メッシュ
パーティクルのソースとなるOBJ表面を制御します。
使用する場面: エミッター形状 = Mesh。
ソース本体を表示
メッシュのソース本体を、パーティクルとともにレンダリングされたシーンに表示します。オフにすると、放出されたパーティクルだけが表示されます。
グリッド
対応するエミッター形状全体にわたって、パーティクルを均等なグリッド状に配置する方法を制御します。
使用条件: 間隔 = Grid。
グリッド数X
X軸に沿った格子位置の数を設定します。
グリッド数Y
Y軸に沿った格子位置の数を設定します。
グリッド数Z
Z軸に沿った格子位置の数を設定します。
グリッドのサンプリング
曲面状のグリッドですべての分割を維持するか、物理的な幅が狭くなる箇所で位置を減らすかを選択します。グリッド数Xは最も広いリング周辺での最大値として保たれます。
オプション: Fixed Divisions · Uniform Spacing。
グリッドのずらし
グリッドの行またはリングを1つおきにセルの一部だけオフセットします。半セルの値にすると、レンガ状またはハニカム状の配置になります。
親パーティクルパターン
子システムが親システムの生存中のパーティクルからどこで・いつ放出するかを制御します。
使用条件: エミッターの動作 = From Parent's Particles。
放出パターン
親エミッターの生存中のパーティクル上で、発生がどのように移動するかを選択します。均等にサンプリングするにはRandom、走査させるにはCycle、タイミングを合わせたバーストにはPulseを使用します。
オプション: Random · Cycle · Pulse。
パターンレート(Hz)
パターンが1秒あたりに走査またはパルスする回数を設定します。
パターンの幅
走査ウィンドウのサイズ、または各パルスのアクティブな部分を設定します。値を小さくすると、より狭いスイープや短いバーストになります。
バースト
単発のバーストを調整します。継続するフレーム数と、減衰する速さを決めます。
使用条件: エミッターの動作 = Burst。
バーストフレーム数
単発のバーストをこのフレーム数に分散させます。フレーム数を増やすと、ゆっくりとした重みのある放出になります。
バーストの減衰
複数フレームにわたるバースト内でパーティクルがどのように分布するかを調整します。値を大きくすると、総数を変えずに開始付近により多くのパーティクルが配置されます。
エミッターマテリアル
メッシュまたはテキストのエミッター本体の、見た目のカラー・グロー・表面の反応を制御します。
使用条件: エミッター形状 = Mesh または エミッター形状 = Text。
カラー
表示されるソース本体の表面の色味を変更します。
After Effects上のラベル: Emitter Color。
メタリック
表示されるソース本体が金属のように光を反射する強さを制御します。
After Effects上のラベル: Emitter Metallic。
ラフネス
表示されるソース本体上のハイライトの鋭さや広がりを変更します。ハイライトの明るさはスペキュラーで制御します。
After Effects上のラベル: Emitter Roughness。
スペキュラー
表示されているソース本体のハイライトの明るさを設定します。ハイライトの鋭さや広がりは引き続きラフネスで決まります。0でハイライトは消え、1で最大の強さになります。
After Effects上のラベル: Emitter Specular。
環境
表示されているソース本体を周囲の環境で照らします。パーティクルをトレースせずに光を加えるため、反射よりもはるかに低コストです。環境の種類はパーティクルの「環境」設定と共通です。
After Effects上のラベル: Emitter Environment。
反射
シーン内のパーティクルと本体自身の面を、表示されているソース本体に映り込ませます。0にすると本体はフラットなままになり、このコントロールが追加される前と同じ見た目になります。
After Effects上のラベル: Emitter Reflections。
反射のぼかし
ソース本体の反射を、本体自身のラフネスに加えてさらにぼかします。0では本体のラフネスと同じになり、100では完全にぼけます。本体に専用のコントロールがあるため、パーティクルの反射をぼかしても本体まで一緒にぼけることはありません。
After Effects上のラベル: Emitter Reflection Blur。
グロー
表示されているソース本体を自ら発光しているように見せます。値を大きくするほどコアが明るくなります。
After Effects上のラベル: Emitter Glow。
フレネル
表示されているソース本体のシルエットに沿って色付きのハローを加えます。値を大きくするほどリムが強くなります。
After Effects上のラベル: Emitter Fresnel。
ライト設定
どのAfter Effectsライトがパーティクルを放出するか、またその強度が放出にどう影響するかを制御します。
併用するコントロール: エミッター形状 = ライト。
ライト名
コンポジション内のどのライトレイヤーがパーティクルを放出するかを示す名前の接頭辞を設定します。この接頭辞で始まる名前のライトはすべてパーティクルのソースになります。
強度から毎秒パーティクル数
選択されたライトのうち、明るいものほど多くのパーティクルを放出するようにします。オフの場合は、選択されたすべてのライトが同じ基本レートを使用します。
テキスト設定
テキストレイヤーの文字をパーティクルのソースとして扱う方法を制御します。
併用するコントロール: エミッター形状 = テキスト。
押し出し
テキストの本体を立体的なソリッドに押し出します。0の場合は平面のままになります。
奥行き
押し出したテキストの前面と背面のエッジに丸みや面取りを付けます。値を大きくするほどエッジの処理が深くなります。
After Effects上のラベル: Bevel Depth。
分割数
テキストのベベルを構成するセグメント数を制御します。分割数を増やすほどエッジが丸くなります。
After Effects上のラベル: Bevel Steps。
テキストを表示
塗りつぶされたテキスト本体を、パーティクルとともにレンダリング結果に表示します。オフにすると、放出されたパーティクルだけが表示されます。
レイヤー設定
レイヤーの画像とアルファチャンネルをパーティクルのソースとして扱う方法を制御します。
使用条件: エミッター形状 = Layer。
ソースを固定
レイヤーソースを開始フレームでサンプリングし、その放出パターンを固定したまま保持します。オフのままにすると、ソースのフレームごとの変化に追従します。
パス
パスソースを、パーティクルを散布する形状から、パーティクルが移動する経路へと変えます。Line、Formula、Maskの各ソースで使用できます。
使用条件: エミッター形状 = Line または エミッター形状 = Formula または エミッター形状 = Mask。
放出の開始
パーティクルが発生し始めるカーブ上の位置を、長さに対する割合で設定します。放出の終了と同じ値にすると1点からすべてが発生するため、パーティクルは最初からカーブ全体を覆うのではなく、パスに沿って移動します。
放出の終了
パーティクルの発生が終わるカーブ上の位置を設定します。終了が開始より小さい場合は、色相の範囲と同じようにカーブの継ぎ目をまたいで範囲が折り返します。閉じた図形ではこの挙動が必要になります。
パスに沿わせる
エミッターのカーブに沿ってパーティクルを誘導します。カーブは位置を固定するのではなくフォースとして引き寄せるため、どの設定でも重力やタービュランスなど他のフォースはすべて適用されます。0ではカーブはパーティクルを配置するだけで、移動はさせません。
パスの速度
パーティクルがカーブに沿って移動する速さを、ピクセル/秒で設定します。負の値では逆方向に進みます。パスに沿わせるが0を超えるまで効果はありません。
パスの半径
カーブに太さを与え、線ではなく流れとして見えるようにします。中身が詰まるか中空になるかは分布で決まります。Fillは中実のチューブになり、SurfaceとEdgeは表面だけになります。
半径の縦横比
チューブを平たくしてリボン状にします。0では断面が円のままです。正の値ではカーブ自身の平面方向に平たくなり、負の値では奥行き方向に立ち上がります。残った側の軸はパスの半径の値をそのまま保ちます。
ねじれ開始
パスの始点でリボンをカーブの周りに回転させます。効果が見えるのは半径の縦横比が0以外のときだけです。断面が円のチューブはどの角度でも見た目が変わりません。
ねじれ終了
パスの終点でリボンを回転させ、途中はねじれ開始からブレンドします。同じ値にするとリボンの角度は一定に保たれ、180の差をつけるとパス全体で半回転します。
終端で
パーティクルがカーブの終端に達したときの動作を選びます。そのときの速度のまま進む、始点に戻ってループする、その場に留まる、消滅する、のいずれかです。自身で閉じたカーブの場合は、どちらでもそのまま周回を続けます。
オプション: Release · Loop · Stop · Die。
フォーミュラ
パラメトリックカーブからパーティクルのソースを作ります。カーブの種類でウェーブ、スパイラル、リサージュ図形のいずれかを選び、それぞれに専用のコントロールが以下に用意されています。
使用条件: エミッター形状 = Formula。
カーブの種類
フォーミュラエミッターがパーティクルを並べるカーブを選びます。波形で変位させた線、ヘリックス、3軸独立のサインのいずれかです。種類ごとに専用のコントロールが以下にあり、使用しないものはグレーアウトします。
オプション: Wave · Spiral · Lissajous。
ウェーブ
フォーミュラのカーブを、1つまたは2つの波形で変位させた線として形づくります。
使用条件: カーブの種類 = ウェーブ。
ウェーブ1の種類
1つ目のカーブを形づくる波形を選びます。
オプション: Sine · Triangle · Square · Sawtooth · Noise。
ウェーブ1の周波数
ソースの線に沿って1つ目の波が何周期入るかを設定します。
ウェーブ1の振幅
1つ目のウェーブがソースラインをどれだけ変位させるかを設定します。負の値ではウェーブが反転します。
ウェーブ1の位相
1つ目のウェーブを形状を変えずにソースラインに沿って移動させます。アニメートするとウェーブが進行します。
ウェーブ1の軸
1つ目のウェーブを垂直方向に曲げるか、奥行き方向に曲げるかを選択します。
オプション: 垂直 · 奥行き。
ウェーブ2の種類
2つ目のカーブを形づくる波形を選択します。
オプション: Sine · Triangle · Square · Sawtooth · Noise。
ウェーブ2の周波数
ソースライン全体に2つ目のウェーブのサイクルがいくつ収まるかを設定します。
ウェーブ2の振幅
2つ目のウェーブがソースラインをどれだけ変位させるかを設定します。負の値ではウェーブが反転します。
ウェーブ2の位相
2つ目のウェーブを形状を変えずにソースラインに沿って移動させます。アニメートするとウェーブが進行します。
ウェーブ2の軸
2つ目のウェーブを垂直方向に曲げるか、奥行き方向に曲げるかを選択します。
オプション: 垂直 · 奥行き。
ミックスモード
2つのウェーブをクロスフェードさせるか、加算するかを選択します。ブレンド量はフェードモードにのみ影響します。
オプション: フェード · 加算。
位相オフセット
両方のウェーブをソースラインに沿って一緒に移動させます。アニメートするとカーブ全体が進行します。
ミックス
フェードモードで1つ目と2つ目のウェーブのバランスを調整します。両端では一方のウェーブのみが使われます。
スパイラル
フォーミュラのカーブを、長さ方向に進むらせん状に形づくります。
使用条件: カーブの種類 = スパイラル。
回転数
スパイラルが全長にわたって何回転するかを設定します。負の値では逆方向に巻きます。
開始角度
スパイラル全体を長軸まわりに回転させます。アニメートするとコイルが回転します。
開始半径
カーブの始点でのスパイラルの半径を設定します。終了半径と同じ値にすると均一ならせんになり、0にすると広がっていくコーン状になります。
終了半径
カーブの終点でのスパイラルの半径を設定します。
半径方向のバイアス
半径が始点から終点へ変化する仕方を偏らせます。50で均等に分布します。値を下げると中心が締まり外側のコイルがゆるくなり、値を上げると早い段階で広がってから緩やかに変化します。
長さのバイアス
コイルがカーブに沿って広がる間隔を偏らせます。50で均等な間隔になり、値を下げると始点側に、値を上げると終点側に密集します。
リサージュ
3つの独立したサイン波の軸からフォーミュラのカーブを形づくるため、図形は本質的に3次元になります。各軸の到達範囲はエミッターサイズで決まります。
併用するコントロール: カーブの種類 = リサージュ。
周波数X
カーブがX方向に何周期描くかを設定します。図形を決めるのは3つの周波数どうしの比率です。整数では図形が閉じ、小数では開いたままになります。
周波数Y
カーブがY方向に何周期描くかを設定します。
周波数Z
カーブがZ方向に何周期描くかを設定します。0では図形は平面のままカメラに正対し、値を上げるとカーブが奥行き方向に立ち上がります。
位相Y
YをXに対してずらします。平坦な斜めの直線を図形へと開くのがこのコントロールで、90度では周波数が一致したペアが円になります。
位相Z
ZをXに対してずらします。X自体は位相を持たず、他の2軸を測る基準になります。
位相オフセット
すべての軸をカーブに沿って一緒に進めます。連続放出のエミッターでアニメーションさせると、パーティクルが図形の周囲を流れていきます。
After Effects上の表示名: Lissajous Phase Offset。
マスク設定
どのAfter Effectsのマスクパスをパーティクルのソースにするかを制御します。
併用するコントロール: エミッター形状 = マスク。
パス
パーティクルの発生位置を供給するマスクのアウトラインを選択します。
すべてのマスク
選択したパスだけでなく、ソース上のすべてのマスクを使用します。
放出元
パーティクルをマスクのアウトライン上に発生させるか、閉じたマスクの内部を埋めるように発生させるかを選択します。開いたマスクは塗りつぶせないため、アウトラインにフォールバックします。マスクでは分布の代わりにこのコントロールを使用します。
オプション: パス · フェイス(閉じたパス)。
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